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GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

时间:2024-05-21 04:20:22 来源: 标准资料网 作者:标准资料网 阅读:9171
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基本信息
标准名称:硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
英文名称:Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy
中标分类: 化工 >> 化工综合 >> 基础标准与通用方法
ICS分类: 化工技术 >> 分析化学 >> 化学分析
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:2010-09-26
实施日期:2011-08-01
首发日期:
作废日期:
主管部门:全国微束分析标准化技术委员会
提出单位:全国微束分析标准化技术委员会
归口单位:全国微束分析标准化技术委员会
起草单位:中国科学院化学研究所、中国计量科学研究院
起草人:刘芬、王海、赵良仲、宋小平、赵志娟、邱丽美
出版社:中国标准出版社
出版日期:2011-08-01
页数:12页
适用范围

本标准规定了一种准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的方法,即X 射线光电子能谱法(XPS)。本标准适用于热氧化法在硅晶片表面制备的超薄氧化硅层厚度的准确测量;通常,本标准适用的氧化硅层厚度不大于6nm。

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所属分类: 化工 化工综合 基础标准与通用方法 化工技术 分析化学 化学分析
【英文标准名称】:Acceptanceconditionsforgeneralpurposeparallellathes.Testingoftheaccuracy.
【原文标准名称】:通用平行车床的验收条件.精确度测试
【标准号】:NFE60-101-1997
【标准状态】:现行
【国别】:法国
【发布日期】:1997-04-01
【实施或试行日期】:1997-04-05
【发布单位】:法国标准化协会(AFNOR)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:Accuracy;Dimensionalmeasurement;Lathes;Machinetools;Precision;Testing;Testingconditions;Tests
【摘要】:
【中国标准分类号】:J50
【国际标准分类号】:25_080_10
【页数】:16P;A4
【正文语种】:其他


基本信息
标准名称:对苯二甲酸二甲酯酸值测定法
中标分类: 化工 >> 有机化工原料 >> 基本有机化工原料
发布日期:1993-06-11
实施日期:1994-05-01
首发日期:1900-01-01
作废日期:2010-01-20
出版日期:1900-01-01
页数:2页
适用范围

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所属分类: 化工 有机化工原料 基本有机化工原料